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[单选题]
下列关于溶胶和高分子溶液的叙述，正确的是( )
A.都属胶体分散系
B.都是多相不稳定体系
C.都可产生明显的丁铎尔现象
D.都是以分子聚集体为其分散相
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A.都属胶体分散系
B.都是多相不稳定体系
C.都可产生明显的丁铎尔现象
D.都是以分子聚集体为其分散相
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更多“下列关于溶胶和高分子溶液的叙述，正确的是（) A．都属胶体分…”相关的问题
关于胶体溶液的稳定性叙述错误的是（）。
A．溶胶ε电位的高低决定了胶粒之间斥力的大小
B．溶胶中加入高分子溶液，可提高溶胶的稳定性
C．带有电荷的溶胶互相混合时，会产生完全沉淀
D．加入电解质，ξ电位降低，水化膜变薄，胶粒易聚集
E．水化膜的形成是决定其稳定性的主要因素
由高分子化合物分散在分散介质中形成的液体制剂是
A、低分子溶液剂
B、高分子溶液剂
C、乳剂
D、溶胶剂
E、混悬剂
由难溶性固体药物以微粒状态分散在液体分散介质中形成的非均相分散体系是
A．低分子溶液剂
B．高分子溶液剂
C．溶胶剂
D．乳剂
E．混悬剂
下列关于休克的叙述，哪项是恰当的
A．失血性休克时，应首先快速输入10%～ 50%葡萄糖溶液，继之大量输血
B．通常在迅速失血超过全身总血量的10%时即出现休克
C．损伤性休克不属于低血容量性休克
D．感染性休克多是革兰阴性杆菌所释放的内毒素引起的内毒素性休克
E．感染性休克的治疗原则是首先控制感染
关于助悬剂的错误表述为
A．助悬剂是混悬剂的是一种稳定剂
B．助悬剂可以增加介质的粘度
C．可增加药物微粒的亲水性
D．亲水性高分子溶液常用作助悬剂
E．助悬剂可降低微粒的ξ电位
关于气雾剂的叙述中，正确的是
A．只能是溶液型，不能是混悬型
B．不能加防腐剂、抗氧剂等
C．抛射剂为高沸点物质
D．抛射剂常是气雾剂的溶剂
E．抛射剂用量少，喷出的雾滴细小
A.手术室应每周彻底清扫一次
B.气性坏疽手术后，可用40％.甲醛溶液消毒手术室
C.手术室空气消毒最常用的方法是紫外线照射
D.绿脓杆菌感染手术后，手术室应用乳酸空气消毒，1:1000新洁尔火擦洗物品，并通风1小时
E.HBsAg阳性病人术后，应喷洒0.1％.次氯酸钠水溶液，30分钟后清拭
下列有关青霉素G的错误叙述是
A．价格低
B．毒性低
C．溶液性质稳定
D．钠盐易溶于水
E．可引起过敏性休克
